Ethos NX5000 Focused Ion Beam System
Des performances inégalées avec une flexibilité ultime
Ce produit est disponible auprès de Milexia France
Série Ethos NX5000
Le Hitachi Ethos FIB-SEM intègre un FE-SEM de dernière génération offrant une luminosité et une stabilité de faisceau exceptionnelles.
Ethos fournit une imagerie haute résolution à basse tension, associée à des optiques ioniques pour un usinage de précision nanométrique.
Colonne FE-SEM haute performance avec mode double lentille
- Observation à ultra-haute résolution (mode HR : semi-in-lens)
- Détection de fin de procédé en temps réel à haute précision (mode FF : champ libre, partage temporel)
Traitement des matériaux à haut débit
- Usinage ultra-rapide grâce à une forte densité de courant ionique (courant de faisceau max. : 100 nA)
- Scripts programmables par l’utilisateur pour l’automatisation des procédés et de l’observation
Système de micro-échantillonnage
- Contrôle entièrement intégré de l’orientation de l’échantillon pour l’effet anti-rideaux (technologie ACE)
- Préparation d’échantillons TEM pour des lamelles uniformes, quelle que soit l’orientation
Capacité triple faisceau pour des résultats de qualité avancée
- Usinage des matériaux par faisceau d’ions de gaz nobles à basse énergie
- Fonctions innovantes réduisant les artefacts liés aux ions Ga et autres artefacts d’usinage
Grande chambre multi-ports et platine pour des applications variées
- Système compatible avec des échantillons de grande taille, offrant une stabilité de platine exceptionnelle
- Suivi longue distance amélioré sur toute la plage (155 × 155 mm)