Sistema de Haz de Iones Enfocado Ethos NX5000
El Ethos FIB-SEM de Hitachi incorpora el FE-SEM de última generación con excelente brillo y estabilidad del haz.
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Sistema de Haz de Iones y Electrones Enfocado Serie Ethos NX5000
El Ethos FIB-SEM de Hitachi incorpora el FE-SEM de última generación con excelente brillo y estabilidad del haz.
Ethos ofrece imágenes de alta resolución a bajos voltajes combinadas con óptica de iones para procesamiento de precisión nanométrica.
Columna FE-SEM de Alto Rendimiento con Modo de Lente Dual
- Observación de ultra alta resolución (modo HR: semi-in-lente)
- Detección de punto final de alta precisión en tiempo real (modo FF: Field Free)
Procesamiento de Material de Alto Rendimiento
- Procesamiento ultra rápido con alta densidad de corriente de iones (corriente máxima: 100 nA)
- Script programable por el usuario para procesamiento y observación automática
Sistema de Micro muestreo
- Control totalmente integrado de orientación de muestra para efecto anti-curtain (tecnología ACE)
- Preparación de muestras TEM para lamelas uniformes en cualquier orientación
Capaz de Haz Triple, con Resultados de Calidad Avanzada
- Procesamiento de material con haz de iones de gas noble de baja aceleración
- Funciones innovadoras reducen artefactos relacionados con Ga y otros
Cámara Grande Multi Puerto y Etapa para Varias Aplicaciones
- Sistema capaz de gran tamaño de muestra con estabilidad excepcional de etapa
- Rastreo de larga distancia mejorado de rango completo (155 x 155 mm)